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水處理設備中uv消毒以及除TOC問題解決大全

來源:純水設備??????2022-09-14 08:56:18??????點擊:
純水設備http://www.cx003.cn紫外殺菌是利用253.7nm的紫外線波長對生物機體的破壞作用導致生物體死亡而達到殺菌的效果。只要是紫外線燈管在使用時都會產生一定的臭氧量,只是253.7nm波長光波能量小,產生臭氧量少,屬于低臭氧燈。

185nm波長的能量要大些,產生的臭氧量相對會高很多,所以一般稱為高臭氧燈。高臭氧燈是利用185nm波長的能量,將水中的有機炭氧化成二氧化碳,所以17M的水過TOC電阻率肯定會下降,再過一次拋光混床就行啦

我們來看看MFUV前和后的不同用途。

MF+UV,目的是去除SSUV石英燈管的影響。主要表現在顆粒對燈管的劃傷,附著所帶來的UV照射強度的降低。而在一個合格的MMF設計后的水中,SDI<4SSUV的影響是很小的,而即使有污染物附著的現象,也不是MF可以解決的,因為這往往是有機物污染源。

UV+MF,細菌的尸體會成為一個新的污染物,純水設備可用過濾的手段去除。5u的濾芯對此種污染物的去除基本是無效的,往往只是形式地安裝實為用于統一去除SS以保證RO的正常運行而已。而真正用于解決細菌尸體的過濾芯為1u以下的絕對孔徑濾芯,而在RO之前安裝這樣的濾芯是奢侈且不實用的。

uv設備在水溫高的情況不能運行是因為熱脹冷縮的原因,石英和不銹鋼的膨脹系數不一樣,可能導致套管被擋板壓斷或者O-ring的變形,導致進水等,Aquafine的紫外線消毒設備最高溫度45,除非要特別訂做.

一些原理化學式:TOC+uv185--- CO2+H20   

               具體:H2O+UV185----H++OH

                          OH—+HCOOH --- CO2+H20

這里會產生co2 ,與水產生H2CO3,使水的電導度增高,所以后段用DI樹脂,混床等去除

為什么在UPW polishing(精處理單元)換新的UV燈管之后,DO(溶解氧)總會爬高,比換之前要高出1~2ppb?

臭氧在水中除了自行分解外,254nmuv的作用下,臭氧會被十分有效地分解產生o2,導致溶解氧升高.而不管是除toc的還是殺菌的紫外燈,254nm的波長都是占了很大比例,而且185波長uv可以使水中產生OH-,也可以促進臭氧的分解為氧氣。

    FABUPW POLISHING LOOP是不是必須用185UV? 185 254 怎樣搭配使用?謝謝

185nm作用是去除upw中的toc,一般toc都需要用185uv來作用的,關鍵是看水質要求。搭配的流程:純水箱----------uv185nm----(脫氧膜機組)---拋光混床----uv254---絕對過濾器---用水

紫外燈屬于氣體放電燈,工作時首先需要一個高電壓將汞蒸汽擊穿形成輝光或弧光放電,從而使燈被點亮,點亮后持續(xù)提供一個低電壓維持氣體放電,使氣體放電不斷進行,持續(xù)放射出紫外光。鎮(zhèn)流器就是要滿足燈管的啟動電壓和后期運行的電壓和電流的要求,大家都知道,功率等于電壓與電流的乘積,純水設備單是在紫外燈中,如果輸入功率達到了設計要求,但電流達不到設計要求,那末因為激發(fā)紫外的電子數量不夠,紫外輸出的功率也達不到設計的要求。

最新技術:低壓高強紫外燈應用于水處理行業(yè)已經開拓了uv消毒除toc的新階段,這種設備配套相應的電子整流器,在整體性能與功效上,燈管數量可以減少一半以上,整流器也對應減少,對于整套設備成本可以節(jié)約20%-30%左右.同時新的產品也給客戶帶來了更大的收獲是系統的運行更加穩(wěn)定,燈管老化系數從 60%提高到了82%,整流器的電壓適應問題也得到了解決,對于國內部分電壓不穩(wěn)定地區(qū)uv設備的使用有了更好的選擇.

為什么在UPW polishing(精處理單元)換新的UV燈管之后,DO(溶解氧)總會爬高,比換之前要高出1~2ppb?

臭氧在水中除了自行分解外,254nmuv的作用下,臭氧會被十分有效地分解產生o2,導致溶解氧升高.而不管是除toc的還是殺菌的紫外燈,254nm的波長都是占了很大比例,而且185波長uv可以使水中產生OH-,也可以促進臭氧的分解為氧氣。

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紫外燈屬于氣體放電燈,工作時首先需要一個高電壓將汞蒸汽擊穿形成輝光或弧光放電,從而使燈被點亮,點亮后持續(xù)提供一個低電壓維持氣體放電,使氣體放電不斷進行,持續(xù)放射出紫外光。鎮(zhèn)流器就是要滿足燈管的啟動電壓和后期運行的電壓和電流的要求,大家都知道,功率等于電壓與電流的乘積,單是在紫外燈中,如果輸入功率達到了設計要求,但電流達不到設計要求,那末因為激發(fā)紫外的電子數量不夠,紫外輸出的功率也達不到設計的要求。

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